Abstrak Dalam penelitian ini, poliol seperti polytetrahydrofuran diol (Ptmg), Polyester Diol (PEA, PBA), polycaprolactone diol (PCL), polycarbonate diol (PCDL), dan polifenilmetana diisosianat (MDI), p-phenyldiiseze (pPDI), naptalena diisocyanate (pPDI), napthalenate diisocyanate (pPDI), naphthalenate diisocyanate (pPDI), naphthalenate diisocyanate (pPDI) lainnya, napthalenate ndiisocyate (pPDI), napthalenate ndiisocyate (pPDI), napthalena diisocyanate (pPDI), naphthalenate ndiisocyate (pPDI), naphthalenate ndiisocyate (pPDI) lainnya (pPDI), napthalenate ndiisocyate (pPDI) lainnya elastomer poliuretan dengan kekerasan yang sama (shao a kekerasan 94 ~ 96). Melalui analisis sistematis, kesimpulan berikut terungkap:
Struktur bagian lunak:Koefisien resistensi dingin kompresi elastomer polieter PTMG secara signifikan lebih tinggi daripada poliester (PCL, PCDL, dll.) Karena kepatuhan ikatan eter yang lebih baik.
Berat molekul segmen lunak:Ketika berat molekul PTMG meningkat dari 1000 menjadi 2900, koefisien resistensi dingin kompresi cenderung naik terlebih dahulu dan kemudian turun, mencapai puncak di Mn =2000.
Faktor Segmen Keras:The structural regularity of diisocyanate is sorted as PPDI ≈ NDI > TODI>Mdi. Semakin tinggi keteraturan, semakin tinggi koefisien resistensi dingin kompresi. Semakin lama rantai molekuler dari rantai extender (seperti HQEE yang mengandung cincin benzena yang kaku), semakin kondusif untuk meningkatkan koefisien resistensi dingin. Peningkatan kandungan koefisien. PREAD.SEDE KONTRI PENGEMBALIAN PENGEMBALIAN NOCA.
Optimalisasi proses:Metode prepromerisasi /metode semi-prepromerisasi (tingkat tinggi pemisahan fase mikro) lebih baik daripada metode satu langkah. Proses vulkanisasi suhu rendah (80 derajat /72 jam) lebih kondusif untuk meningkatkan koefisien resistensi dingin kompresi daripada vulkanisasi suhu tinggi (120 derajat /8 jam).
1. Analisis faktor pengaruh kunci
1.1 Pengaruh struktur segmen lunak
Polyether vs Polyester: PTMG mengandung sejumlah besar ikatan eter (resistansi rotasi bebas rendah), dan koefisien resistensi dingin kompresi elastomernya (0,43) jauh lebih tinggi daripada jenis poliester (seperti PBA hanya 0,15), karena basis besar ester poliester, mudah dikristalisasi pada suhat rendah.
1.2 Pengaruh berat molekul segmen lunak
When the molecular weight of PTMG increases from 1000 to 2900, the compression cold resistance coefficient peaks at Mn=2000 (0.46).An increase in molecular weight will enhance the softness of the soft section, but too high (>2000) akan menyebabkan kristalisasi dan mengurangi kemampuan atletik.
1.3 Dampak struktur bagian yang keras
Tipe Diisocyanate:
| Diisocyanate | Koefisien Resistensi Dingin Kompresi | Tingkat rebound (%) |
|
Mdi |
0.43 | 55 |
| PPDI | 0.63 | 65 |
| Ndi | 0.62 | 68 |
| Todi | 0.58 | 61 |
Kesimpulan: Struktur kaku PPDI/NDI mempromosikan pengaturan rutin segmen keras dan secara signifikan meningkatkan resistensi dingin.
Jenis rantai extender:
| Rantai Extender | Koefisien Resistensi Dingin Kompresi |
| Bdo | 0.43 |
| HDO | 0.46 |
| HQEE | 0.52 |
| Deg | 0.18 |
Kesimpulan: Rantai extender yang mengandung struktur kaku (seperti cincin benzena HQEE) dapat meningkatkan pemisahan fase mikro, sedangkan ikatan deg eter menghancurkan kepadatan zona keras.
Konten Segmen Keras:Fraksi massa NCO dari prepomer meningkat dari 8,5% menjadi 9,5%, proporsi segmen lunak menurun, koefisien resistensi dingin kompresi menurun dari 0,48 menjadi 0,35, dan kekerasan meningkat dari 94A menjadi 96A.
1.4 Pengaruh proses persiapan
Metode sintesis:Koefisien resistensi dingin kompresi dari metode satu langkah, metode semi-prepromer, dan metode prepromer adalah 0,38, 0,44, dan 0,43, masing-masing. Metode prepromerisasi mempromosikan pemisahan fase mikro dan mengoptimalkan kinerja suhu rendah.
Proses vulkanisasi:Vulkanisasi suhu rendah (80 derajat /72 jam, koefisien 0,47) lebih baik daripada vulkanisasi suhu tinggi (120 derajat /8 jam, koefisien 0,38), yang mempromosikan reaksi ikatan silang untuk menghasilkan ikatan format urea karena suhu yang tinggi, mengurangi tingkat pemisahan fase mikro.
2. Kesimpulan
Optimalisasi Segmen Lembut:Ptmg dengan mn =2000 lebih disukai sebagai substrat segmen lunak.
Desain bagian yang keras:Pilih diisosianat regularitas tinggi seperti PPDI /NDI, dan gunakan HQEE Chain Extender. Kontrol Proses: Metode prepromer digunakan dalam kombinasi dengan proses vulkanisasi 80 derajat /72H untuk memaksimalkan koefisien resistensi dingin kompresi.